Stiklinė nuolatinė dangos gamybos linija yra labai automatizuota, nuolat veikianti pramoninė sistema, naudojama vienam ar keliems plonųjų plėvelių sluoksniams, turintiems specifines funkcijas (pvz., Mažą spinduliuotę, saulės spindulių valdymą, savaiminį valymą, antiefleksiją, laidumą ir kt.), Sudėjimo ant plokščio stiklo paviršiaus.

Tai yra pagrindinė šiuolaikinio stiklo giluminio apdorojimo įranga ir ji plačiai naudojama statybų, automobilių, fotoelektros, namų prietaisų, vitrinų prietaisų ir kt. Laukuose.

Stiklo ištisinė dangos gamybos linijaDaugiausia naudojama vakuume ištisine metalinių plėvelių, lydinio plėvelės, dielektrinės plėvelės ar daugiasluoksnės plėvelės danga ant buitinio prietaiso stiklo, baldų stiklo, automobilio stiklo, didelio ploto veidrodžio, funkcinio ar dekoratyvinio stiklo ir tt. Labiausiai paplitusios, atspindinčios plėvelės, spalvų plėvelės, pusiau transmarentinę plėvelę ir tt. Produktai turi šilumos išsaugojimą, šviesos filtrą, atsparumą.

Amorfinė silicio saulės elementų gamybos linija daugiausia naudojama dideliems fotoelektriniams stiklo šablonams gaminti. Įprastinis stiklas naudojamas kaip substratas, skirtas paruošti deguonies skaidrią laidžią plėvelę per atmosferos slėgį CVD arba PVD, PECVD, kad būtų paruošti įvairūs amorfiniai silicio plėvelės sluoksniai, magnetrono purškimas, kad būtų galima paruošti aliuminio plėvelę ar azo elektrodus, yra naudojamas filmų sistemai, o po to, kai buvo galima paruošti ir pakuoti. Visas procesas neviršija dešimt žingsnių.

Gamybos procesas yra paprastesnis nei kristalinių silicio ląstelių, silicio medžiagų panaudojimo greičio padidėja dešimtys kartų, o gamybos kaina yra tik apie 1/3 kristalinių silicio ląstelių.

Dengimo gamybos linija tinka metalinėms plėvelėms, tokioms kaip AL, CR, SUS, NI, SN, SN, TI ir lydiniai, taip pat gali reaguoti į delektrines plėveles, tokias kaip SiO2 ir TiO2. Gamybos procesas yra visiškai automatinis ir tęstinis.

Bendrovė gali suprojektuoti ir gaminti visą įrangos rinkinį, pagrįstą substrato dydžiu, techniniais reikalavimais ir gamybos pajėgumų reikalavimais, kuriuos teikia vartotojas.

Ši įranga taip pat tinkama padengti ant stiklo substratų arba ant plokščio ruošinių, tokių kaip mobiliojo telefono raktai.

„Low-E“ žemo spinduliuotės stiklo dangos gamybos linija (ty sienų užuolaidų atsparios stiklo dengimo gamybos linija) yra tinkama dengti metalinę vieną plėvelę, kompozicinę plėvelę, lydinio plėvelę, dielektrinę plėvelę ir kitas daugiasluoksnes plėveles ant didelio plokščio plokščio stiklo, taip pat gali būti padengtas ant mažo lenkto stiklo.

ITO laidžioji stiklo dengimo gamybos linija tinka TN, STN, TP ir CF skaidrioms laidžioms laidžiosioms plėvelėms ant aukštos kokybės plūduriuojančio stiklo. Jis tinka padengti SiO2/ITO plėvelės sluoksnius, o gamybos procesas yra visiškai automatinis ir tęstinis.

Visas įrangos rinkinys gali būti specialiai suprojektuotas ir pagamintas pagal substrato dydį, techninius reikalavimus ir gamybos pajėgumų reikalavimus, kuriuos teikia vartotojas.