Keletas įprastų jonų šaltinių vakuuminės dangos aparatų padengimo procese

Norint pagerinti ruošinio sukibimą, rišimo jėgą ir plėvelės struktūrą, daugelyje vakuuminių dangos mašinų dengimo proceso metu yra jonų šaltiniai.
Nors yra daugybė jonų šaltinių rūšių, jų tikslas yra ne kas kita, kaip valymas internetu, gerinant energijos pasiskirstymą ir paruoštas paviršiaus moduliavimą, kad padidintų reakcijos dujų energiją. Jonų šaltinis gali žymiai pagerinti ryšio stiprumą tarp plėvelės ir substrato, taip pat gali pagerinti pačios plėvelės atsparumą ir susidėvėjimą. Jei atsparus nusidėvėjimui elektroplinimo įrankio sluoksnis paprastai yra storesnis, o plėvelės storio vienodumas nėra didelis, gali būti naudojamas jonų šaltinis, turintis didesnę jonų srovę ir didesnį energijos lygį, pavyzdžiui, salės jonų šaltinis ar anodo jonų šaltinis.
Anodo sluoksnio jonų šaltinio principas yra panašus į salės jonų šaltinio. Žiedinis (stačiakampis arba apskritas) siauras plyšys pridedamas su patobulintu magnetiniu lauku, o darbinės dujos yra jonizuotos ir išmetamos į ruošinį, veikiant anodui. Anodo sluoksnio jonų šaltinis gali būti labai didelis ir ilgas, o tai ypač tinka didelių dalių, tokių kaip architektūrinis stiklas, elektropliavimui. Anodo sluoksnio jonų jonų jonų srovė taip pat yra didelė. Tačiau jonų srautas skiriasi, o energijos lygio pasiskirstymas yra per platus. Paprastai jis tinka dideliems ruošiniams, stiklams, atsparus dėvėjimams ir dekoratyviniams ruošiniams. Tačiau pažangių optinių dangų nėra daug.
Šiame vakuume yra aprūpintas salės jonų šaltinis, kuriame anodas ir stiprus ašinis magnetinis laukas veikia kartu, kad sujungtų proceso dujas. Stiprus ašinio magnetinio lauko pusiausvyros sutrikimas atskiria dujų jonus, kad susidarytų jonų pluoštas. Kadangi ašinis magnetinis laukas yra per stiprus, salės jonų šaltinio jonų pluoštui reikia papildyti elektronais, kad būtų neutralizuotas jonų srautas. Dažnas neutralizacijos šaltinis yra volframo gija (katodas).